俄罗斯计划研发新型EUV光刻机，采用11.2纳米技术

机器将使用波长为 11.2 纳米的激光器，而非 ASML 使用的标准波长 13.5 纳米。这种波长与现有的 EUV 基础设施不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，这可能需要数年甚至十几年的时间。计划分三阶段推进，最终实现每小时加工60片300毫米晶圆的能力。